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    该设备主要用于纳米材料工艺涂层、多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺。


    手机腾龙时时彩软件 www.fkcg.icu ■  设备系统简介

    ◆ 结构型式:卧式,单管或多管系统自动控制

    ◆ 适应晶体尺寸:2-8"

    ◆ 送取片方式:自动悬臂石英推拉舟,配合手动取、

         放片方式。

    ◆ 最高温度:1000℃

    ◆ 工作温度:400℃~850℃连续可调

    ◆ 单点温度稳定性:400℃~850℃≤±1 ℃/24h

    ◆ 系统极限真空度:优于3 Pa

    ◆ 抽速:抽至极限真空时间<15Min。

    ◆ 工作压力范围:100-760 Torr连续可调

    ◆ 供电电源:三相五线380V±10%,50Hz

    ◆ 冷却水:2~4Kgf/c㎡,8L/min;

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